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光刻胶核心溶剂,断供告急!

4月23日,据行业媒体TheElec及多方消息证实,日本主要光刻材料供应商已正式通知三星电子、SK海力士等韩国半导体巨头,其关键原材料采购环节出现严重中断,日本供应商将考虑从中国或韩国采购PGME和PGMEA。

此次断供的核心是两种名为丙二醇甲醚(PGME)和丙二醇甲醚醋酸酯(PGMEA)的电子级溶剂,它们是制造光刻胶、抗反射涂层(BARC)、旋涂硬掩模(SOH)乃至高带宽存储器(HBM)临时粘合剂的重要组成,其短缺将直接威胁到芯片制造的核心光刻工艺。

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