本次采购步进扫描式光刻机的采购方为科学技术部的LGGJ实验室，项目金额11300万元。“单一来源采购”方式的选择，意味着采购方认为只有上海微电子能够满足其需求。

从官方披露的《单一来源采购专家论证意见表》可以看出，这套设备具备高分辨率光学成像能力（分辨率≤110nm）和套刻精度≤15nm，可支持微纳尺度结构的高均匀性、高稳定性加工。

步进扫描光刻技术结合了扫描投影光刻和分步重复光刻的优势，通过动态扫描方式同步移动掩膜版和晶圆，特别适用于0.25μm以下的先进工艺制造。

虽然说，与国际巨头相比，上海微电子由于起步较晚，再加上国外的技术封锁，在技术上仍存在差距。但我们现在需要的进步不是超越他人，而是超越昨天的自己。目前，上海微电子已实现90nm DUV光刻机的量产能力，28nm浸没式光刻机的研发也在积极推进中。

资料显示，上海微电子装备（集团）股份有限公司成立于2002年，主要致力于半导体装备、泛半导体装备、高端智能装备的开发、设计、制造、销售及技术服务。

经过二十余年的技术积累，上海微电子已成为国内唯一具备前道光刻机生产能力的企业。截至2020年3月，公司直接持有各类专利及专利申请超过3200项，通过建设并参与产业知识产权联盟，整合共享了大量联盟成员知识产权资源。

上海微电子由上海电气控股集团有限公司、张江高科全资子公司上海张江浩成创业投资有限公司等共同持股，形成了强有力的股东背景。公司的光刻设备产品线包括SSX600系列、SSB500系列、SSB300系列等，满足不同制造领域的光刻工艺需求。

根据技术指标，上海微电子最新机型已可实现分辨率≤110nm、套刻精度≤15nm的性能指标，成为国产高端光刻装备的重要突破。

步进扫描式光刻机具备整个扫描过程的实时聚焦调节能力，其标准曝光尺寸为26mm×33mm，可增大曝光场并一次曝光多个芯片。这种技术特点使其能够满足高密度神经电极阵列对极细线宽和高对准精度的苛刻工艺要求。

技术的进步不是一蹴而就的，而是一点一滴积累的结果。上海微电子在光学系统、光源及双工件台等核心环节的关键技术突破，为国产替代加速推进奠定了基础。

光刻机领域的竞争如同马拉松，不是短跑冲刺。上海微电子这场始于二十年前的长跑，已经从跟跑进入了并跑阶段。就像芯片电路一样，每一个微小的进步都需要千万次的精确刻画，而正是这些看似微不足道的积累，最终汇聚成了技术突破的洪流。