俄罗斯130nm光刻机完成验收:制造成本达650万美元
快科技10月9日消息,据CNews报道,俄罗斯已完成用于生产130纳米制程光刻机的第三阶段设计验收工作,该阶段验收证书已于2026年8月7日签署。
该130nm分辨率光刻机由“泽列诺格勒纳米技术中心”(Zelenograd Nano Technology Center,ZNTC)与白俄罗斯“普拉纳尔”(Planar)公司合作开发,主要用于将集成电路拓扑图形投影转移到直径200毫米(8英寸)的半导体晶圆上,并在制造超大规模集成电路(VLSI)时进行多重投影复制,设计制程为130纳米。
在项目框架内,ZNTC制造了两台波长为193纳米的准分子激光器原型,同时还制造了光掩模、测试结构、用于在工作波长上测量和控制光刻及像差特性的物镜测试台等,并完成了基础工艺调试。
按计划,ZNTC应在2026年3月交付第三阶段,但实际推迟至2026年8月才交付。目前该装置已完成基础工艺调试。
最新验收证书还指出,这款俄罗斯自研的130nm制程光刻机具有“独特特征”,因为它使用包括自主研发的193纳米准分子激光器在内的光源,以及其他国产零部件和国产半导体材料,达到了所需分辨率。
需要指出的是,ZNTC在2025年初已完成首台分辨率为350纳米的光刻机生产,该设备已移交给Element Group旗下的“行业解决方案”公司。同时,ZNTC还开发了设计规范为150纳米的电子束光刻设备。
根据曝光的文件,该装置的开发由白俄罗斯“普拉纳尔”公司负责(费用为1.496亿卢布)。除装置本身外,该公司还负责机械部件制造(费用为1.95亿卢布)、零件和原型调试(费用超过1亿卢布)。
激光器由“拉萨德”(Lassard)公司开发,费用为5亿卢布。累计支付给“普拉纳尔”和“拉萨德”的费用略超过10亿卢布。
据科瓦廖夫称,ZNTC在项目中负责装置整体开发、测试台和工艺台结构设计、物镜计算,以及工艺建模和开发。
光刻机本身的制造成本估计为5.422亿卢布(约650万美元),两个激光器成本分别为4900万卢布和4600万卢布。
对俄罗斯而言,130纳米分辨率步进式光刻机原型完成研发并通过验收,显然是一项新突破,此前其不具备这类光刻机的生产能力。此前,全球能够生产此类光刻机的企业仅有荷兰ASML、日本佳能和尼康、中国上海微电子。

原文标题 : 俄罗斯130nm光刻机完成验收:制造成本达650万美元
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