光刻机
光刻机（Mask Aligner）是制造微机电、光电、二极体大规模集成电路的关键设备。其分为两种，一种是模板与图样大小一致的contact aligner，曝光时模板紧贴晶圆；另一种是利用类似投影机原理的stepper，获得比模板更小的曝光图样。高端光刻机被称为“现代光学工业之花查看详情>”，制造难度很大，全世界只有少数几家公司能制造。
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上海微电子中标1.1亿元光刻机项目
维科网半导体获悉，12月25日午间，中国政府采购网发布了一则公告：上海微电子装备（集团）股份有限公司成功中标“zycgr22011903单一来源采购步进扫描式光刻机项目”，成交金额高达10999.98
光刻机 2025-12-25 -
美媒：中国造出EUV光刻原型机，但芯片量产是10年后的事
美国科技媒体Tom’s Hardware最新报道称，中国正在建设EUV光刻系统的原型机，预计2030年左右制造原型芯片。这一消息得到前ASML员工参与项目的佐证，但关于中国设备的具体进展细节仍处于高度
EUV 2025-12-23 -
2亿像素！手机CIS高端局全面打响
11月28日，索尼正式抛出手机图像传感器（CIS）领域的重磅新品——新一代2亿像素传感器LYTIA 901，不仅以1/1.12英寸大底、AI图像处理电路等硬核配置刷新行业技术标杆，更宣布后续手机传感器
CIS 2025-12-01
换一批
