EUV
极紫外光刻（Extreme Ultra-violet），常称作EUV光刻，它以波长为10-14纳米的极紫外光作为光源的光刻技术。具体为采用波长为13.4nm 的紫外线。极紫外线就是指需要通过通电激发紫外线管的K极然后放射出紫外线。
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绕过顶级EUV, 晶圆一哥的底牌终于摊开
当半导体行业掀起High-NA EUV光刻机抢购热潮时，台积电似乎并没有这项计划，甚至表示：直至 2029 年的全系列规划节点，涵盖 A12、A13 等核心制程，均不纳入High-NA EUV设备的应
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美媒：中国造出EUV光刻原型机，但芯片量产是10年后的事
美国科技媒体Tom’s Hardware最新报道称，中国正在建设EUV光刻系统的原型机，预计2030年左右制造原型芯片。这一消息得到前ASML员工参与项目的佐证，但关于中国设备的具体进展细节仍处于高度
EUV 2025-12-23
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