EUV
极紫外光刻(Extreme Ultra-violet),常称作EUV光刻,它以波长为10-14纳米的极紫外光作为光源的光刻技术。具体为采用波长为13.4nm 的紫外线。极紫外线就是指需要通过通电激发紫外线管的K极然后放射出紫外线。
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国产量检测 要开始用EUV了
谈及EUV,大部分人首先想到的是光刻机。但实际上在量检测领域,也开始逐渐引入EUV了。光刻波长从193 nm到13.5 nm剧烈变化,使得EUV光刻工艺需要全新的元器件和材料,这意味着需要在工作波长(
EUV 2026-08-26 -
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绕过顶级EUV, 晶圆一哥的底牌终于摊开
当半导体行业掀起High-NA EUV光刻机抢购热潮时,台积电似乎并没有这项计划,甚至表示:直至 2029 年的全系列规划节点,涵盖 A12、A13 等核心制程,均不纳入High-NA EUV设备的应
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美媒:中国造出EUV光刻原型机,但芯片量产是10年后的事
美国科技媒体Tom’s Hardware最新报道称,中国正在建设EUV光刻系统的原型机,预计2030年左右制造原型芯片。这一消息得到前ASML员工参与项目的佐证,但关于中国设备的具体进展细节仍处于高度
EUV 2025-12-23
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